| 产品特性退火炉 | 加工定制是 |
| 品牌centrotherm | 类型高温炉 |
| 型号150 | 别名快速退火炉 |
| 适用范围小于1850 | 炉膛最高温度1800℃ |
| 工作温度1400℃ | 装载量可调kg |
| 工作室尺寸1000mm | 外形尺寸1000mm |
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| 产品特性退火炉 | 加工定制是 |
| 品牌centrotherm | 类型高温炉 |
| 型号150 | 别名快速退火炉 |
| 适用范围小于1850 | 炉膛最高温度1800℃ |
| 工作温度1400℃ | 装载量可调kg |
| 工作室尺寸1000mm | 外形尺寸1000mm |
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了***控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。***性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款的手动RTP设备。
二、典型应用
退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火
硅化
氧化
掺杂活化
三、产品特性
可在常压或者真空（控压）下工作
高度灵活性：适用于6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘
升温速率约150 K/s
***温度均匀性
***的环境控制
高的设备可靠性
可以并排安装
Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。
RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司技术的温度控制系统。
RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。
设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。
设备特点：
压力可控的真空或大气环境下工作
高灵活性：6寸硅片或其他材料
温度范围：20℃~1150℃
不***加热的工艺温度可达 750℃
升温速率可达150k/s（即150℃/秒）
每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性
±0.5℃温度一致性
长寿命加热灯管，低维护成本
典型应用：
金属接触退火
掺杂物活化
源极/漏极退火
干氧化
薄晶圆退火
设备参数：
应用： 生产或研发
基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石
晶圆尺寸： 6寸
加热系统： 24组加热灯，PWM控制
冷却水： 20 L/分钟
排 风： 250 m3/小时
可选件：
用于温度曲线调整的温度测量系统
用于全自动操作的双机械手臂
| 企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 统一社会信用代码 | 911101057832377671 |
|---|---|---|---|
| 成立日期 | 2005-11-28 | 法定代表人/负责人 | 彭辉 |
| 注册资本 | 1,000万(元) | 注册地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 |
| 营业期限 | 2005-11-28 至 2055-11-27 | 登记机关 | 北京市朝阳区市场监督管理局 |
| 经营范围 | 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（市场主体依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。） | ||
