产品特性ALD镀膜 | 加工定制是 |
品牌PICOSUN | 型号PICOSUN?R-300***ALD镀膜设备 |
用途ALD镀膜 | 别名镀膜设备 |
规格ALD镀膜 |
产品特性ALD镀膜 | 加工定制是 |
品牌PICOSUN | 型号PICOSUN?R-300***ALD镀膜设备 |
用途ALD镀膜 | 别名镀膜设备 |
规格ALD镀膜 |
PICOSUN?P-300B
PICOSUN?P-300B ALD系统是专为生产MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)以及各种3D物品(例如机械零件,玻璃或金属薄板,硬币,手表零件和珠宝,镜片,光学器件以及医疗设备和植入物。
PICOSUN?P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起,我们可以生产出具有优异产量,低颗粒水平以及***的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护,确保了系统停机时间zui 少,市场拥有成本zui 低。我们***Picoflow?扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺,在***深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
PICOSUN?P-300B ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的,例如机械零件,硬币,钟表零件和珠宝,镜片,光学元件和医疗设备,外科植入物和植入物的涂层设备(PicoMEDICAL?解决方案)。该系统速度快,可靠性高且易于维护。
PICOSUN?P-300BV
PICOSUN?P-300BV ALD系统是专门为生产LED,分立器件和MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)而设计的。
PICOSUN?P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起,我们可以生产出具有优异产量,低颗粒水平以及***的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护,确保了系统停机时间zui 少,市场拥有成本zui 低。我们***Picoflow?扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺,在***深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
PICOSUN?P-300BV ALD系统代表了工业ALD的jian端。该系统设计用于半自动处理晶圆批次。该工具针对快速批量生产进行了优化,可以通过SECS / GEM选件集成到工厂自动化中。带有加热选件的真空加载系统能够对敏感基材进行清洁处理,并沉积诸如金属氮化物之类的材料。
PICOSUN?P-300S
PICOSUN?P-300S ALD系统是专门为生产IC组件(例如微处理器,存储器和硬盘驱动器)而设计的,并且还适用于MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)。
PICOSUN?P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起,我们可以生产出具有优异产量,低颗粒水平以及***的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护,确保了系统停机时间zui 少,市场拥有成本zui 低。我们***Picoflow?扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺,在***深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
PICOSUN?P-300S ALD系统代表了工业ALD的jian端。该系统旨在与行业标准真空集群平台结合使用,对单个晶圆进行全自动处理。可以通过SECS / GEM选件将SEMI S2 / S8认证的P-300S ALD系统集成到工厂自动化中,它们可以满足半导体行业zui 严格的清洁度要求。
PICOSUN?P-300S是IC创新驱动行业的shou选ALD系统。
PICOSUN?P-1000
PICOSUN?P-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品,例如机械零件,玻璃或金属薄板,硬币,手表零件和珠宝,镜片,光学器件以及医疗设备和植入物。
PICOSUN?P-1000 ALD系统设计用于批量处理各种3维物品,例如机械零件,硬币,钟表零件和珠宝,镜片,光学器件和医疗设备,外科植入物和可植入设备(PicoMEDICAL?解决方案)在生产环境中。主要应用包括各种钝化层和阻挡层,以显着提高涂层产品的性能和使用寿命。 PICOSUN?P-1000 ALD系统提供创新且灵活的设计,可通过经过生产验证的工艺,以优异的均匀性,zui 高的产量,zui 小的系统停机时间和较低的拥有成本,实现zui 高质量的ALD沉积。
PICOSUN?P-1000 ALD系统可靠,快速且易于维护,代表了工业ALD的前沿。
PICOSUN?Morpher
PICOSUN?Morpher ALD产品平台旨在颠覆Beyond和超越摩尔技术中的200毫米晶圆产业。它以ling先的过程质量,可靠性和操作敏捷性,实现了MEMS,传感器,LED,激光器,功率电子器件,光学器件和5G组件的快速,全自动,高通量生产。从公司研发到生产和铸造制造的所有业务ling域,Morpher都能适应您行业不断变化的需求和客户的需求。基质材料,基质和批量大小方面的ling先多功能性以及广泛的工艺范围,使Morpher真正成为可转变的,包罗万象的制造设施,使您始终引ling行业。
PICOSUN?Morpher设计用于结合行业标准的单晶圆真空集群平台来全自动处理晶圆批次。 性的获得专利的晶圆批量翻转机制使该系统能够与半导体生产线集成,在该生产线中,大多数处理都是在水平几何结构中进行的,并且SEMI S2 / S8认证可确保该系统与***zui 严格的标准兼容。
PICOSUN?Morpher ALD系统可通过SECS / GEM协议集成到工厂自动化中,而zui ***的软件可通过直观,精简的图形用户界面为系统提供简单,安全和无故障的操作。凭借我们获得专利的双室,热壁反应器设计以及完全分离的前驱体导管和入口,我们可以创造出zui 高质量的ALD膜,具有优异的产率,低颗粒水平以及***电学和光学性能。紧凑的,符合人体工程学的设计以及便捷的维护,确保了系统停机时间zui 少,市场拥有成本zui 低。
企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 统一社会信用代码 | 911101057832377671 |
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成立日期 | 2005-11-28 | 法定代表人/负责人 | 彭辉 |
注册资本 | 1,000万(元) | 注册地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 |
营业期限 | 2005-11-28 至 2055-11-27 | 登记机关 | 北京市朝阳区市场监督管理局 |
经营范围 | 技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) |