| 产品特性PECVD | 加工定制是 |
| 品牌德国SENTECH | 型号DEPOLAB 200 |
| 用途等离子沉积 | 别名DEPOLAB 200 |
| 规格DEPOLAB 200 |
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| 产品特性PECVD | 加工定制是 |
| 品牌德国SENTECH | 型号DEPOLAB 200 |
| 用途等离子沉积 | 别名DEPOLAB 200 |
| 规格DEPOLAB 200 |
PECVD等离子沉积设备DEPOLAB 200
低成本效益高
PECVD等离子体增强化学气相沉积设备Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接载片相结合。
升级扩展性
根据其模块化设计，PECVD Depolab 200可升级为更大的真空泵组，低频射频源和更多的气路。
SENTECH控制软件
强大的用户友好软件包括模拟图形用户界面，参数窗口，工艺***编辑窗口，数据记录和用户管理。
Depolab 200是SENTECH基本的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备，它结合了用于均匀薄膜沉积的平行板电极设计和直接载片的成本效益设计的优点。从2″至8″晶片和样品的标准应用开始，可以逐步升级以完成复杂的工艺。
PECVD Depolab 200的***特点是系统的可靠设计，软件和硬件的灵活性。在该设备上开发了不同的工艺，例如用于高质量氮化硅和氧化硅层的沉积。PECVD Depolab 200包括带气路柜的反应腔体，电子控制，计算机、前级泵和配电箱。
Depolab 200 等离子增强沉积设备用于在从室温到400℃的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。PECVD Depolab 200特别适用于沉积用于刻蚀掩膜，电隔离膜及其他的介质膜。
PECVD Depolab 200由SENTECH***的控制软件操作，使用远程现场总线技术和用户友好的通用用户界面。
· Depolab 200
· 等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备
· 开盖载片
· 适用于大到200mm的晶片
· 衬底温度可高达400?°C
· 可选低频射频降低应力
· 干泵组
· 占地面积小
| 企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 统一社会信用代码 | 913101147743437873 |
|---|---|---|---|
| 成立日期 | 2005-04-26 | 法定代表人/负责人 | 彭波 |
| 注册资本 | 1,000万(元) | 注册地址 | 上海市嘉定工业区叶城路925号B区4幢JT30367室 |
| 营业期限 | 2005-04-26 至 2045-04-25 | 登记机关 | 嘉定区市场监督管理局 |
| 经营范围 | 一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；会议及展览服务；组织文化艺术交流活动；信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）；机械设备销售；电子产品销售；建筑材料销售；货物进出口；技术进出口；进出口代理。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动） | ||
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