| 是否进口否 | 产地美国 |
| 品牌Nano-maste | 型号 SWC-3000 |
| 是否跨境货源否 |
| 是否进口否 | 产地美国 |
| 品牌Nano-maste | 型号 SWC-3000 |
| 是否跨境货源否 |
zui新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zui新的水平，可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于zui***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到zui优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化支持zui理想的清洗，同时***在样片的损伤阈值范围内。
SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了zui低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，zui***的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。
此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。
SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出" 一步工艺可以在我们的系统中以zui低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。
NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。
SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有***的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。
| 企业类型 | 有限责任公司 | 统一社会信用代码 | 91440300789207446B |
|---|---|---|---|
| 成立日期 | 2006-05-17 | 法定代表人/负责人 | 徐翠兰 |
| 注册资本 | 1,080万(元) | 注册地址 | 深圳市宝安区沙井街道共和社区共和第四工业区A4栋A6单元761-764 |
| 营业期限 | 2006-05-17 至 5000-01-01 | 登记机关 | 宝安局 |
| 经营范围 | 一般经营项目是：机械设备研发；工程和技术研究和试验发展；半导体器件专用设备销售；光学仪器销售；电子测量仪器销售；实验分析仪器销售；集成电路芯片及产品销售；电子专用材料销售。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动），许可经营项目是：货物进出口；技术进出口。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准） | ||
