| 是否进口否 | 产商/产地德国 |
| 含量≥20％ | 品牌Micro resist |
| 用途范围纳米压印 |
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| 是否进口否 | 产商/产地德国 |
| 含量≥20％ | 品牌Micro resist |
| 用途范围纳米压印 |
德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。
MR-I T85系列
热塑性NIL抵抗剂 基于非极性环烯烃共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蚀剂（Tg = 85°C）
特征：
1）用于制造微流体或芯片实验室设备的薄膜厚度可能高达5 ?m
2）100％有机热塑性塑料→可以使用纯氧等离子体进行干法蚀刻和剥离
3）在紫外线/可见光范围内具有的光学透明度，并具有针对不同溶剂，酸和碱的独特化学稳定性
应用领域
芯片实验室系统
1）生物应用 4）波导
2）微流控 5）单层和多层系统
3）微光学元件 6）用于图案转印过程的掩模
处理步骤
玻璃化温度 85°摄氏度
烙印温度 130 – 150°C
压印压力 5 – 20巴
适用于各种膜厚（3000 rpm）*
mr-I T85-0.3 300 nm
mr-I T85-1.0 1.0 um
mr-I T85-5.0 5.0 um
*可根据要求提供定制的膜厚
| 企业类型 | 个体工商户 | 统一社会信用代码 | 92420111MA4E9J1UXR |
|---|---|---|---|
| 成立日期 | 2020-09-22 | 法定代表人/负责人 | 高珍珍 |
| 注册地址 | 武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室 | 营业期限 | 长期有效 |
| 登记机关 | 武汉市洪山区市场监督管理局 | 经营范围 | 网上销售：教学仪器仪表、五金产品、金属结构产品、办公用品、计算机及辅助设备、实验室化学试剂（不含有毒有害易燃易爆危险品）、实验室用品、塑料制品、实验室耗材；教学仪器仪表技术咨询服务。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营） |
查看联系方式
武汉市洪山区莱博兹科学仪器经营部
谢女士
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