硅化钽粉
基本信息
中文名称:硅化钽粉
英文名称:Tantalum silicide powder
分子式:TaSi2
分子量:237.12
CAS#:12039-79-1
熔点:2200℃
密度(20℃):9.4 g/cm?
外观形态:黑色粉体
电阻率:1.23×10-5 Ω·cm-1
显微硬度:1407 kg/mm2
溶解度:不溶于水
储存方法:储存于阴凉、通风的库房,切忌混储,保持容器密封,远离火种,库房必须安装避雷设备
7302005 | Tantalum disilicide powder (TaSi2) | 二硅化钽粉 | 12039-79-1 | 99 % | 0.5 μm |
7302003 | Tantalum disilicide powder (TaSi2) | 二硅化钽粉 | 12039-79-1 | 99 % | 2 μm |
7302001 | Tantalum disilicide powder (TaSi2) | 二硅化钽粉 | 12039-79-1 | 99 % | - 200 mesh |
7302004 | Tantalum disilicide powder (TaSi2) | 二硅化钽粉 | 12039-79-1 | 99 % | - 80 mesh |
7302002 | Tantalum disilicide powder (TaSi2) | 二硅化钽粉 | 12039-79-1 | 99 % | 5 - 10 μm (FSSS) |
产品用途
硅化钽粉具有高熔点、低电阻率、抗腐蚀、抗高温氧化性以及与硅、碳等基体材料具有良好的兼容性等优异性能,作为栅材料、集成电路的连结线路、高温抗氧化涂层等,在电热元件、高温结构部件、电子器件等高新技术领域的关键材料。
(1)可以用作氮化硅-硅化钽复合陶瓷材料,在长时间工作过程中依然能够保持良好的力学性能,使用寿命长;
(2)硅化钽粉可作为硅化钽涂层,用于行业飞行器以及导弹弹头;
(3)硅化钽粉可以应用金属间硅化物的低电阻、高稳定性以及与硅材料优良的相容性,金属间硅化物常常用于大规模集成电路中的肖基特势垒、欧姆接触、栅极等电子元件的材料;
(4)硅化钽可以用于高性能硅基电极材料;
产品优势
福斯曼硅化钼粉产品可提供纳米级别、亚微米级别、微米级别等不同粒度的产品。已实现工业化生产的硅化钼粉产品粒度有0.5 μm,2 μm,- 200 mesh,- 80 mesh等。纯度可达99 %以上。针对实验室需求,我们一般有5 g,25 g,100 g,250 g,1 Kg等包装规格,以满足实验室研究用户的需求,可以按照客户投料数量定制包装规格。
产品展示
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图 | 7302005 硅化钽粉 0.5 μm
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图 | 7302005 硅化钽粉 0.5 μm XRD
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图 | 7302005 硅化钽粉 0.5 μm SEM
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图 | 7302005 硅化钽粉 0.5 μm SEM
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图 | 硅化钽粉产品包装
源头工厂、研究开发
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质量管理认证证书
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库存 物流 包装展示
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