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Trymax 半导体 光刻机剥离、灰化 清洗 等离子去胶机 NEO2000系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO2000
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 半导体设备 科研 微纳米加工 检测设备 -
芯片光刻胶剥离液 光学玻璃清洗剂 丝印玻璃专用清洗剂
- 分类
- 油污清洗剂
- 型号
- HQ-159
- 品牌
- 皓泉
- 香型
- 无味
- PH值
- 无
- 保质期
- 48个
主营产品: 工业清洗剂 重油污清洗剂 循环水处理药剂 中央空调清洗剂 -
Trymax 半导体 光刻胶剥离及灰化设备 等离子去胶机 NEO200A系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO2400
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 原子力显微镜 扫描电子显微镜 纳米表征 微纳加工 -
半导体晶圆清洗设备 SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统 那诺-马斯特
- 产品特性
- 硅片清洗
- 品牌
- 那诺-马斯特
- 规格
- 30”D x 26”W
- 类型
- 硅片清洗设备
- 型号
- SWC-4000
- 产地
- 美国
主营产品: 磁控溅射 晶圆清洗 半导体量测 分析仪器 -
Mykrolis光刻胶过滤系统,Entegris囊式过滤器,0.1μm光刻胶囊式过滤器
- 类型
- 高效
- 材质
- PE
- 适用对象
- 化学药品
- 适用范围
- 过滤器
- 品牌
- Pall/颇尔
主营产品: PALL过滤器 半导体气体过滤器 终端气体过滤器 无菌空气过滤器 -
光刻胶剥离液 光刻胶清洗剂 光刻胶除胶剂 光刻胶分解液
- 产品特性
- 半导体清洗
- 产品名称
- 光刻胶剥离液
- 品牌
- 远岸科技
- 系列
- 2832
- 是否危险化学品
- 否
- 是否进口
- 否
主营产品: 清洗剂 切削液 防锈剂 钝化剂 -
工厂出售芯片晶圆硅片退镀液 半导体芯片光刻胶剥离液 批发
- 是否进口
- 否
- 产地
- 中国
- 品牌
- 凹凸
- 名称
- 退镀液
主营产品: 清洗剂 润滑油 退镀脱墨 切削液 -
FFKM半导体光刻机用全氟醚O-RING耐STRP剥离液耐等离子低析
- 产品特性
- 橡胶
- 是否进口
- 否
- 产地
- 苏州
- 牌号
- 永芯密封
- 品名
- 密封圈
- 厂家(产地)
- 苏州
主营产品: 密封圈 密封件 密封制品 密封条等 -
自动金属剥离机METAL LIFT OFF M+100-L
- 加工定制
- 是
- 品牌
- M+
- 型号
- METAL LIFT OFF M+100-L
- 用途
- 剥离
主营产品: 匀胶机 显影机 喷胶机 清洗机 -
晶圆、硅片、单片式光刻自动清洗、去胶剥离清洗、兆声波清洗机
- 是否进口
- 否
- 产地
- 深圳
- 加工定制
- 是
- 类型
- 通过式
- 适用领域
- 化工
- 用途
- 工业用
主营产品: 超声波清洗机 兆声波清洗机 冷水机 高频焊接机 -
Trymax 半导体 光刻胶剥离及灰化设备 等离子去胶机 NEO200A系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO2400
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 半导体设备 科研 微纳米加工 检测设备 -
Trymax 半导体 光刻胶剥离及灰化设备 等离子去胶机 NEO200A系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO2400
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 半导体设备 科研 微纳米加工 检测设备 -
Trymax 半导体 去胶剥离、灰化设备 等离子去胶机NEO3000系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO3000
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 半导体设备 科研 微纳米加工 检测设备 -
Trymax 半导体 去胶剥离、灰化设备 等离子去胶机NEO3000系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO3000
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 原子力显微镜 扫描电子显微镜 纳米表征 微纳加工 -
Trymax 半导体 光刻机剥离、灰化 清洗 等离子去胶机 NEO2000系列
- 加工定制
- 否
- 品牌
- trymax
- 型号
- NEO2000
- 用途
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 别名
- 去胶机
- 规格
- 1
主营产品: 原子力显微镜 扫描电子显微镜 纳米表征 微纳加工 -
硅片清洗设备 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统 晶圆清洗设备
- 产品特性
- 硅片清洗
- 品牌
- 那诺-马斯特
- 规格
- 30”D x 26”W
- 类型
- 硅片清洗设备
- 型号
- SWC-3000
- 产地
- 美国
主营产品: 磁控溅射 晶圆清洗 半导体量测 分析仪器 -
半导体光刻机用全氟醚O-RING耐STRP剥离液耐等离子低析
- 品牌
- 永芯密封
- 产地
- 苏州
- 用途
- 密封
- 材质
- 全氟醚
- 形状
- O型圈
- 性质
- 耐腐蚀
主营产品: 密封圈 密封件 密封制品 密封条等
共 22 条光刻胶剥离记录
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